Lanzamiento de litografía podría brindar energía solar barata

Los investigadores del Instituto de Tecnología de Massachussets dijeron esta semana que han encontrado un modo de moldear en líneas de chips a menos de 25 nanometros uno de otro. Esto posee grandes implicaciones para la baja de los costos en la industria de chips, incluyendo las células fotovoltaicas utilizadas en los paneles solares.

Los fabricantes de Chips siempre están tratando de meter más transmisores en un chip para incrementar las habilidades de procesamiento de un semiconductor. Pero al mismo tiempo, los fabricantes de chips también tratan de meter más chips en una oblea, para no tener la necesidad de fabricar chips más pequeños. Es como meter más y más pingüinos en un iceberg reducido.

El campo se conoce como nanolitografia. La litografía, donde las líneas son grabadas o impresas en chips, es un difícil problema en el mundo de la fabricación de chips porque los chips se achican y se esperan más transistores en un semiconductor. Actualmente Intel esta fabricando algunos de estos chips de laptop a 45 nanometros para grabar tales líneas a lo largo de las áreas de la superficie – lo que será bueno para los fabricantes de células PV – y sin algunos de los tratamientos químicos utilizados por otros en la nanolitografia.

Las técnicas de MIT utilizan ondas de sonido para controlar el movimiento láser a través de la superficie de un circuito mientras que el láser esta grabando las líneas. Otros métodos de litografía utilizan equipamientos de imprentas moleculares, que imprimen líneas tan pequeñas como 20 nanometros de un modo similar a una oblea de hierro o disminuyen los esfuerzos de la litografía de la transmisión de electrones.

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Published by DForce on Aug 27th, 2008 in Aprovechando ES